에스앤에스텍(101490) 시스템반도체: 블랭크마스크 전문제조💻

블랭크마스크 등 첨단소재 국산화 기술력·대기업 공급망·재무 안정성이 강점이나 최근 실적 둔화, 영업이익률 하락, 배당·자사주 정책 소극적.
신제품 성과·시장 확대 모멘텀은 중장기적으로 긍정적. 단기 리스크 감안, 보수적 분할매수 후 실적 모니터링 필수. (2025년 8월 기준)

■ 에스앤에스텍 주요 사업 내용

  • 사업분야: 반도체·디스플레이 노광 공정용 포토마스크 핵심 원재료 ‘블랭크마스크’ 전문제조기업. 국내 최초 국산화 성공, EUV 공정 등 첨단소재 기술력을 갖추고, 삼성전자·SK하이닉스 등에 공급, 대만·중국 등 수출 병행.
  • 신성장: EUV 펠리클, 소재 국산화 프로젝트 등 첨단 반도체 소재 확장, R&D 투자를 통해 신기술 선도 지향.

■ 최대주주 : 정수홍 외(21.77%)

■ 주요주주 : 삼성전자(8.00%)

■ 사업 구조 ∙ 수익모델 ∙ 성장전략

  • 매출비중: 블랭크마스크가 전체 매출의 85~90% 차지. EUV/DUV 마스크와 펠리클 등 신사업 매출 비중 지속 확대 중.
  • 영업이익: 첨단소재(반도체, 디스플레이) 고마진 중심 구조. 2024년 기준 매출 감소로 영업이익률 일부 둔화 현상.
  • 국내 경쟁사: SK머티리얼즈, AP시스템, 한미반도체 등. 
  • 글로벌 경쟁사: Photronics, Hoya, Toppan 등 핵심 소재기업.
  • 성장 전략: EUV 펠리클 신제품 양산, 소재·공정 다각화, 해외시장 확대, AI·자동화 접목 강화.
  • 리스크: 글로벌 경쟁 심화, 기술투자 부담, 소재 국산화 정책변동, 원자재/환율 영향, 실적 변동성.

■ 재무상태와 수익성

연 도20212022202320242025H1
매출액1,2801,4101,5031,320600
영업이익21726025010537
순이익21224025911033
영업이익률(%)16.918.416.686.2
부채비율(%)13.214.315.615.213.8
ROE(%)10.211.811.76.13.2
ROA(%)9.810.110.55.92.9
  • 최근 실적 부진으로 영업이익률·ROE 하락 중, 재무건전성은 매우 양호(부채비율 15% 내외).

■ 배당 및 주주환원 정책

연 도배당금(원)배당성향(%)시가배당률(%)자사주 매입(억원)
20211007.90.2없음
20221508.10.3없음
20231509.10.32없음
202415012.160.6없음
  • 배당 기조: 2022년부터 3년 연속 배당(150원, 2024년은 배당성향 12.16%, 시가배당률 0.6%)
  • 정책 특징: 안정적이고 보수적인 현금배당 유지, 배당수익률은 낮은 편
  • 자사주 매입: 최근 5년간 자사주 매입·소각 없음
  • 향후 전망: 실적 개선 및 신규 제품 성과에 따라 중기적으로 배당 확대 가능성 존재

■ 산업 ∙ 경영환경 (SWOT)

  • 반도체 소재 국산화 정책 지원
  • 글로벌 반도체 투자 확대로 장기 성장성 확보
  • 환율·원자재 가격 변동에 민감
구 분주 요 분 석 내 용
강점
(Strengths)
① 국내 유일 블랭크마스크 제조·공급 업체로 독점적 지위 보유
② 삼성전자·SK하이닉스 등 글로벌 톱티어 반도체 기업과 안정적 장기 공급망 확보
③ EUV·DUV 기술 및 펠리클 R&D 선도, 국산화 성공 경험 풍부
④ 부채비율 15% 내외의 매우 견조한 재무구조
⑤ 파운드리·메모리·디스플레이 등 다양한 응용시장에 적용 가능
약점
(Weaknesses)
① 매출의 85% 이상이 블랭크마스크에 집중, 제품 포트폴리오 다변화 부족
② 배당성향과 시가배당률이 낮아 주주환원 매력도 제한적
③ 최근 2년간 영업이익률 하락, 실적 변동성 확대
④ R&D 비용 지속 증가로 단기 수익성 압박 가능
⑤ 주요 고객사 매출 의존도가 높아 거래처 리스크 존재
기회
(Opportunities)
① 전 세계 반도체 공정 미세화(EUV, High-NA EUV) 가속화로 첨단 블랭크마스크 수요 급증
② 국내 소재·부품·장비 국산화 정책 및 정부 R&D 투자 확대 수혜
③ 펠리클, 신소재 등 신규 고부가가치 제품 상용화
④ 대만, 중국, 일본, 미국 등 해외 공급망 다변화 가능
⑤ AI·데이터센터·고성능 컴퓨팅(HPC) 확산에 따른 메모리/비메모리 전방 수요 증가
위협
(Threats)
① 일본 HOYA, 미국 Photronics 등 글로벌 강자와의 기술·가격 경쟁 심화
② 환율·원자재 가격 변동에 따른 원가 부담과 수익성 악화 위험
③ 반도체 사이클 침체 시 주문량 급감 가능성
④ 주요 고객사의 자체 생산 확대 시 외부 공급 물량 축소 우려
⑤ 글로벌 지정학적 리스크(미·중 기술분쟁, 수출규제)로 인한 해외 판매 불확실성

■ 최근 이슈 및 투명성

  • 2024~2025 신제품(펠리클) 개발·양산 준비
  • ESG 등급 ‘B’ 유지, 환경·지배구조 개선 노력

■ 차트 기술적 분석

  • 2023년 고점(19,400원) 이후 조정, 현재 12,400원
  • 주요 지지선 12,000원, 저항선 14,500원

■ 향후 1년 주가 시나리오

시나리오조 건예상 주가(원)확률(%)
상승신제품 상용화·실적 회복14,500~16,00030
중립현상 유지11,000~14,00050
하락수주 감소·경쟁 심화9,500~11,00020

■ 투자 전략 제안

  • 매수: 11,000~12,500원 분할매수
  • 매도: 목표가 15,500원, 부분매도 14,500원 이상
  • 손절: 9,500원

■ 단·중·장기 모멘텀 & 리스크

  • 단기: 펠리클 양산 소식
  • 중기: 해외 판로 확대
  • 장기: 소재 국산화·ESG 개선
  • 리스크: 기술투자 비용, 실적 변동성

■ 향후 2~3년 손익 시뮬레이션

구 분보수적기 준낙관적
매출액(억원)1,3001,4501,700
영업이익80160260
추정 PER281812
목표주가(원)10,00014,50018,500
수익률(%)-5~1515~3535~65
  • 25.02 : 100억원 규모 자사주 취득 신탁계약 해지 결정 → 신탁계약 기간 만료
  • 24.12 : 417.28억원 규모 신규 시설투자 결정 → 자기자본대비 18.9%
  • 24.06 : 보통주 7,173주(2.8억원) 규모 자사주 처분 결정 → 자기주식 교부(차액보상)
  • 23.05 : 보통주 200,000주(96.8억원) 규모 자사주 처분 결정 → 용인공장 시설자금
  • 22.03 : 200억원 규모 신규 시설투자 결정 → 신규공장(용인) 신축

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